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Area Semiconductor devices and integrated circuits / Processing semiconductor materials

IEV ref521-03-14

en
ion implantation
formation of a region of P-type, N-type or intrinsic conductivity in semiconductor crystal by implanting accelerated ions

fr
implantation ionique, f
formation d’une région de conductivité de type N, de type P ou intrinsèque dans un cristal semiconducteur par implantation d’ions accélérés

ar
زراعة ايونات

de
Ionenimplantation (bei Halbleitern), f

es
implantación iónica

fi
ioni-istutus

it
impianto ionico

ko
이온 주입

ja
イオン注入

pl
implantacja jonów

pt
implantação iónica

sr
имплантација јона, ж јд

sv
jonimplantering

zh
离子注入

Publication date: 2002-05
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