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Area Micro-electromechanical systems (MEMS) / Measurement technology

IEV ref 523-07-03

en
spectroscopic ellipsometry
optical measurement method where the sample is successively irradiated with several-wavelength monochromatic light and both the thickness and the refractive index of the layers can be obtained simultaneously from the polarized reflection

Note 1 to entry: Monochromatic light from a spectroscope is linear-polarized using a polarizer. Then the light is irradiated on the thin film, and the reflected light intensity of the polarized components is measured. The thickness and the complex refractive index can be calculated from the measurement results.


[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.7.5]


fr
ellipsométrie spectroscopique, f
méthode de mesure optique dans laquelle l'échantillon est irradié successivement par des rayonnements lumineux monochromatiques de différentes longueurs d'onde; l'épaisseur des couches et leur indice de réfraction peuvent être obtenus simultanément à partir de la réflexion polarisée

Note 1 à l’article: Un rayonnement lumineux monochromatique provenant d'un spectroscope est polarisé linéairement sous un polariseur. Le rayonnement lumineux est ensuite irradié sur la couche mince et l'intensité du rayonnement lumineux réfléchi des composants polarisés est mesurée. L'épaisseur et l'indice de réfraction complexe peuvent être calculés à partir des résultats des mesures.


[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.7.5]


de
spektroskopische Ellipsometrie, f

ja
分光エリプソメトリー

pl
elipsometria spektroskopowa, f

pt
elipsometria espectroscópica

zh
椭圆偏振光检测法

Publication date: 2018-12
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