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Area Superconductivity / Production process

IEV ref815-14-12

en
chemical vapour deposition process
CVD process
production process of a film by involving chemical reactions of gases (vapours) which include the desired constituent atoms

Note 1 to entry: Organometallic or other compounds are transported at relatively low temperature to the reaction area using a carrier gas where the products of the reaction are deposited on a substrate (e.g. MOCVD, halide CVD, plasma enhanced CVD, laser enhanced CVD).


fr
dépôt chimique en phase vapeur, m
méthode CVD, f
méthode de formation d'un film par utilisation des réactions chimiques de gaz (vapeurs) contenant les atomes de base du composé que l’on souhaite constituer

Note 1 à l’article: Des composés organométalliques ou autres sont transportés à une température relativement basse, à l’aide d’un gaz porteur jusqu'à la zone de réaction. Après réaction, les produits sont déposés sur un substrat (par exemple: MOCVD, CVD halogène, CVD assisté par plasma, CVD assisté par laser).


de
CVD-Verfahren, n

es
proceso de depósito químico en fase de vapor
proceso CVD

ko
화학 증착법

ja
化学蒸着法
CVD法

pl
proces chemicznego naparowywania, m

pt
processo de deposição química em fase  vapor
processo CVD

zh
化学气相沉积法
CVD法

Publication date: 2015-11
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