Queries, comments, suggestions? Please contact us.



Area Industrial electroheat / Electric discharge heating and treatment

IEV ref841-34-13

en
physical vapour deposition treatment
PVD (abbreviation)
production process of a superconducting thin film by mainly using physical evaporation

Note – PVD process mainly constitutes a thin film by using vacuum evaporation of atomic species or sputter deposition using single or multiple targets in inert or reactive atmospheres, e.g. ion beam sputtering.


[SOURCE: 815-05-13 MOD]


fr
traitement de dépôt physique en phase vapeur, m
méthode de formation d’une couche mince supraconductrice principalement par utilisation de l’évaporation physique

Note – Pour l’essentiel, cette méthode permet d’obtenir un film mince utilisant l’évaporation sous vide d’espèces atomiques ou le dépôt par pulvérisation sous vide monocible ou multicible en atmosphère inerte ou réactive, par exemple pulvérisation cathodique.


[SOURCE: 815-05-13 MOD]


ar
معالجة ترسيب طبيعي (فيزيائي) بالبخار

de
Behandlung mit physikalischer Gasphasenabscheidung, f
PVD-Verfahren, n

es
tratamiento de depósito físico en fase vapor

it
trattamento di deposizione di vapori fisici

ko
물리증착 처리
물리적 증착 처리

ja
物理気相成長法
PVD, (略語)

pl
obróbka metodą fizycznego osadzania par

pt
tratamento de deposição física em fase vapor
PVD (abreviatura inglesa)

sr
третман физичког таложења, м јд
PVD

sv
fysisk ångfasdeponering

zh
物理气相沉积处理

Publication date: 2004-09
Copyright © IEC 2020. All Rights Reserved.