| méthode de formation d'un film par utilisation des réactions chimiques de gaz (vapeurs) qui contiennent les atomes de base du composé souhaité
Note 1 à l’article: Des composés organométalliques ou autres sont transportés à une température relativement basse, à l’aide d’un gaz porteur jusqu'à la zone de réaction. Après réaction, les produits sont déposés sur un substrat (par exemple, MOCVD, CVD halogène, CVD assisté par plasma, CVD assisté par laser). Note 2 à l’article: Le terme abrégé "CVD" est dérivé du terme anglais développé correspondant "chemical vapour deposition". Note 3 à l’article: Cet article était numéroté 815-14-12 dans l’IEC 60050-815:2015.
|