Note 1 à l’article: Pour l'essentiel, le dépôt physique en phase vapeur permet d'obtenir un film mince par l'évaporation sous vide d’espèces atomiques ou le dépôt par pulvérisation sous vide monocible ou multicible en atmosphère inerte ou réactive (par exemple, pulvérisation magnétron radiofréquence, pulvérisation cathodique, épitaxie par jet moléculaire, ablation laser).

Note 2 à l’article: Le terme abrégé "PVD" est dérivé du terme anglais développé correspondant "physical vapour deposition".

Note 3 à l’article: Cet article était numéroté 815-14-13 dans l’IEC 60050-815:2015.