International

Electrotechnical

Area		Semiconductor devices and integrated circuits / Processing semiconductor materials

IEV ref		521-03-14

en		ion implantation
		formation of a region of P-type, N-type or intrinsic conductivity in semiconductor crystal by implanting accelerated ions

fr		implantation ionique, f
		formation d’une région de conductivité de type N, de type P ou intrinsèque dans un cristal semiconducteur par implantation d’ions accélérés

ar		زراعة ايونات

de		Ionenimplantation (bei Halbleitern), f

es		implantación iónica

fi		ioni-istutus

it		impianto ionico

ko		이온 주입

ja		イオン注入

pl		implantacja jonów

pt		implantação iónica

sr		имплантација јона, ж јд

sv		jonimplantering

zh		离子注入

Publication date: 2002-05