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Superconductivity / Production process |
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IEV ref |
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815-14-13 |
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en |
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physical vapour deposition process PVD process |
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production process of a superconducting thin film mainly by using physical evaporation Note 1 to entry: The physical vapour deposition process mainly constitutes a thin film by using vacuum evaporation of atomic species or sputter deposition using single or multiple targets in inert or reactive atmospheres (e.g. RF-magnetron sputtering, ion beam sputtering, molecular beam epitaxy, laser ablation). |
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fr |
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dépôt physique en phase vapeur, m méthode PVD, f |
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méthode de formation d'une couche mince supraconductrice principalement par utilisation de l'évaporation physique Note 1 à l’article: Pour l'essentiel, le dépôt physique en phase vapeur permet d'obtenir un film mince utilisant l'évaporation sous vide d’espèces atomiques ou le dépôt par pulvérisation sous vide monocible ou multicible en atmosphère inerte ou réactive (par exemple, pulvérisation magnétron radiofréquence, pulvérisation cathodique, épitaxie par jet moléculaire, ablation laser). |
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de |
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PVD-Verfahren, n |
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es |
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proceso de depósito físico en fase de vapor proceso PVD |
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ko |
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물리 증착법 물리적 증착 처리 |
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ja |
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物理蒸着法 PVD法 |
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pl |
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proces fizycznego naparowywania, m |
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pt |
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processo de deposição física em fase vapor processo PVD |
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zh |
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物理气相沉积法 PVD法 |