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Superconductivity / Production processes |
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815-24-16 |
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en |
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chemical vapour deposition process
CVD process |
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production process of a film by involving chemical reactions of gases (vapours) that include the desired constituent atoms
Note 1 to entry: Organometallic or other compounds are transported at a relatively low temperature to the reaction area, using a carrier gas, where the products of the reaction are deposited on a substrate (e.g. MOCVD, halide CVD, plasma-enhanced CVD, laser-enhanced CVD). Note 2 to entry: This note applies to the French language only. Note 3 to entry: This entry was numbered 815-14-12 in IEC 60050-815:2015. |
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fr |
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dépôt chimique en phase vapeur, m
méthode CVD, f |
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méthode de formation d'un film par utilisation des réactions chimiques de gaz (vapeurs) qui contiennent les atomes de base du composé souhaité
Note 1 à l’article: Des composés organométalliques ou autres sont transportés à une température relativement basse, à l’aide d’un gaz porteur jusqu'à la zone de réaction. Après réaction, les produits sont déposés sur un substrat (par exemple, MOCVD, CVD halogène, CVD assisté par plasma, CVD assisté par laser). Note 2 à l’article: Le terme abrégé "CVD" est dérivé du terme anglais développé correspondant "chemical vapour deposition". Note 3 à l’article: Cet article était numéroté 815-14-12 dans l’IEC 60050-815:2015. |
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ar |
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عملية ترسيب كيميائي بالبخار |
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de |
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CVD-Verfahren, n |
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es |
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proceso de depósito químico en fase de vapor, m
proceso CVD, m |
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it |
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processo di deposizione chimica da fase vapore |
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ja |
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化学蒸着法
CVD法 |
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pl |
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proces chemicznego naparowywania, m |
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pt |
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processo de deposição química em fase vapor
processo CVD |
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zh |
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化学气相沉积法
CVD法 |