International
Electrotechnical
Commission
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Area
Industrial electroheat
/ Electric discharge heating and treatment
IEV ref
841-34-09
en
plasma assisted chemical vapour deposition treatment
PACVD (abbreviation)
CVD treatment combined with electric activation of gaseous media in conditions of abnormal glow discharge
fr
traitement de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
, m
traitement de dépôt chimique en phase vapeur combiné avec une activation électrique de milieux gazeux dans des conditions de décharge luminescente anormale
ar
معالجة ترسيب كيمايئي بالبخار المساعد للبلازما
de
PACVD-Verfahren, n
durch Plasma unterstützte Behandlung mit chemischer Gasphasenabscheidung, f
es
tratamiento de depósito químico en fase vapor asistido por plasma
it
trattamento con deposito di vapori chimici con presenza di plasma
ko
플라즈마 보조 화학증착 처리
ja
プラズマ化学気相成長法
ＰＡＣＶＤ, （略語）
pl
obróbka metodą chemicznego osadzania par (przy wyładowaniu jarzeniowym)
pt
tratamento de deposição química em fase vapor assistido por plasma
PACVD (abreviatura inglesa)
sr
хемијски третман таложења испарења помоћу плазме, м јд
PACVD
sv
plasmastödd kemisk ångfasdeponering
zh
等离子体化学气相沉积处理
Publication date:
2004-09
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©
IEC
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